产品品牌:诺福
产品型号:NW-100
性状:透明液体
用途:清除金属离子,除污,杀菌
执行标准:ISO9000-ISO14000
主要用途:去除金属离子
产地:比利时
溶解性:100%
推荐用量:0.03 ﹪
主要成份:纯过氧化氢,活性胶质银离子
有效物质含量:50%
微电子行业的核心是超大规模集成电路芯片的生产技术,在复杂的生产过程中有多道工序要使用超纯过氧化氢。由于芯片生产极其严格的要求是人类工业化生产唯一的,杂质对芯片生产都是致命的。为了防止生产过程中受外来杂质(特别是金属离子)污染,因此所用过氧化氢必须是超纯的,其质量要求是极其苛刻的。
产品成份
电子级稳定性过氧化氢,活性胶质银离子
【产品标准】
产品达到SEMIC19-90标准和SEMIC75-93标准
产品特性诺福的主要功效成份:超纯型稳定性过氧化氢具有超纯的氧化力,能氧化芯片的有害杂质(特别是金属离子)、悬浮物和穿透细菌、微生物的细胞壁和细胞膜,使其关键功能成分被氧化。产品特点:1氧化分解芯片的有害杂质(特别是金属离子)、有机杂质、非金黄属离子杂质,悬浮物和穿透细菌、微生物的细胞壁和细胞膜,2 安全无毒、无污染、无任何副作用,无味,无色,不起泡沫,不会造成污染的问题。能够在0-95摄氏度情况下有效使用,100% 的可生物分解,完全的生物友好,不会污染环境,不会造成芯片短路,防静电。3 产品不易挥发,质量稳定,保质期长
产品使用范围
1,产品广泛应用于超大规模集成电路和TFT-LCD面板制造过程及太阳能硅片,电子元件的蚀刻与清洗,半导体工艺的流程。
2,用于电子芯片、电子器件、机密电子的有害杂质(特别是金属离子)、有机杂质、非金黄属离子杂质的氧化去除、电子线路管、金属管件上的氧化铜、氧化铁、氧化铝等氧化物的去除。
产品使用方法:
1 浸泡 用诺福超纯型稳定性电子级氧化剂1:300的使用比例,浸泡半小时即可使芯片,电子原件等表面的杂质(特别是金属离子)去除,氧化。
2 喷洒涂抹、刷洗 以诺福超纯型稳定性电子级氧化剂1:500的使用比例,在芯片、电子原件上进行(细小器具)涂抹、刷洗,清洗。
特殊性能
●能有效去除电子器件基材上的氧化铜和聚合物材料。
●能在金属表面形成保护膜,有效阻止金属表面再氧化和腐蚀。